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离子镀膜的均匀性要求


  pvd真空镀膜,离子镀膜膜层的均与性主要包括成分均匀、组织结构均匀和膜厚均匀,最终保证膜层各种性能均匀。材料的性能由其诚分与组织结构所决定,膜层必须获得所设计的膜系成分和组织结构均匀一致。薄膜是二维材料,膜的厚度是重要的材料技术指标。比如薄膜的干涉显色,耐腐蚀性和耐磨性都与膜厚密切相关,膜厚均匀保证薄膜相关的性能均匀。
  离子镀膜膜层的成分来源于镀料,或者说来源于蒸发源和溅射靶的材料以及反应气体。这些沉积物的物种及其比例,在沉积过程要稳定供给。
  离子镀膜膜层的组织结构除了决定于沉积物料的成分外,还取决于沉积粒子的能量、粒子入射角度和基体温度等,在沉积过程中要求保持一致。
  离子镀膜膜层的厚度取决沉积物的总量,当然以膜致密度相同为前提。
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